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三星2021年将推芯片新技术 性能提高35%能耗降50%

2019-05-15   网易科技
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三星将于2021年向市场推出一项突破性的处理器技术,对最基本的电子元件进行根本性改造,使芯片性能提高35%,同时使能耗降低50%。据悉,当地时间周二三星在于加州圣克拉拉举行的三星铸造论坛(Samsung Foundry Forum)上宣布,这项名为“环绕栅极”(gate all around,GAA)的技术能够对芯片核心晶体管进行重新设计和改造,使其更小更快。




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