日前，美光在新加坡庆祝其Feb 10工厂扩建完成，美光方面表示，虽然新扩建的洁净室并不能增加其晶圆产能，但是能让美光继续生产工艺要求较高的多层闪存产品。
据了解，美光新的3D NAND生产设施占地面积16.5万平方米，目前新扩展出来的工厂正在进行设备安装，预计今年下半年将投产96层的3D NAND产品。具体生产安排会根据实际需求确定。
此次美光扩建工厂后，虽然不会增加晶圆产能，但是更高水准的洁净室能让美光继续生产更高层数的3D NAND产品，3D NAND层数越多，所需要刻蚀的时间也就越长，这要求洁净室的环境符合更严格的标准。
美光表示，未来将扩大在新加坡的研发业务，从而进一步提高Fab 10工厂的产能和良品率。
